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清鎳3#快速高整平鍍鎳光…
作用與機理:
1. 本光亮劑出光速度快,深鍍能力強,柔軟性好,整平性特強;2. 本光亮劑無論高,低電流密度區均可獲得光亮奪目的白…
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MNP化學鍍鎳磷合金光劑
作用與機理:
1. 本工藝采用科學的化學鍍鎳新工藝配方,可獲得含磷量6%~9%(質量)的中磷鍍層,在汽車、電子、辦公設備、精密器…
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HD半光亮鎳光澤劑
作用與機理:
1. 該工藝是專門為防腐性能要求高的電鍍件而設計,適用于作為多層鎳系統中的半光亮鎳底層; 2. 不含香豆素,甲醛…
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F-53 全氟辛基磺酸鉀
作用與機理:
鉻霧抑制劑加入鍍鉻槽內,對鍍液沒有不良影響,還能明顯改善鉻層微裂紋程度,提高鉻層硬度,增加結合力。
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HVEE 高效鍍硬鉻催化劑
作用與機理:
1. 陰極電流效率高達22~26%,是傳統標準鍍鉻工藝的2~3倍,節約能源。 2. 使用電流密度寬廣,30~90A/dm2均可,沉積…
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CE-198型稀土鍍鉻添加劑…
作用與機理:
使用CE-198添加劑工藝與原常規高鉻鍍工藝相比,具有鉻酐濃度低,深鍍能力強,電流效率高,施鍍溫度低等特點。CE-1…
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