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產品展示
F-53 全氟辛基磺酸鉀
作用與機理：
鉻霧抑制劑加入鍍鉻槽內，對鍍液沒有不良影響，還能明顯改善鉻層微裂紋程度，提高鉻層硬度，增加結合力。
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HVEE 高效鍍硬鉻催化劑
作用與機理：
1. 陰極電流效率高達22~26%，是傳統標準鍍鉻工藝的2~3倍，節約能源。 2. 使用電流密度寬廣，30~90A/dm2均可，沉積…
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CE-198型稀土鍍鉻添加劑…
作用與機理：
使用CE-198添加劑工藝與原常規高鉻鍍工藝相比，具有鉻酐濃度低，深鍍能力強，電流效率高，施鍍溫度低等特點。CE-1…
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